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當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心實驗室搭建PECVD 射頻模塊

  • 上海實驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積

    上海實驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點,工藝流程簡單,與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較,生長溫度更低,管輝光均勻等效,薄膜均勻沉積。

    更新時間:2023-12-21
    產(chǎn)品型號:
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  • KT-PE500ZPECVD射頻模塊

    PECVD射頻模塊通過反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點,工藝流程簡單,與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較,生長溫度更低,管輝光均勻等效,薄膜均勻沉積。

    更新時間:2023-12-15
    產(chǎn)品型號:KT-PE500Z
    瀏覽量:2178
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